半導體光刻膠行業專題報告：國產半導體光刻膠迎發展良機.pdf
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- 時間：2020/11/18
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半導體光刻膠是半導體光刻工藝的核心材料，決定了半導體圖形工藝的精 密程度和良率。作為高精尖的半導體制造核心材料，由于技術壁壘和客戶 壁壘高，全球半導體光刻膠市場集中度高，市場被美日公司長期壟斷。國 內在半導體光刻膠領域自給率低，高端 ArF 光刻膠則完全依賴進口，中美 貿易摩擦下，出于半導體產業安全的考慮，光刻膠自主可控意義凸顯。
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