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上海新陽（300236）研究報告：國內晶圓制程及先進封裝用化學品領先企業。憑借在半導體領域持續高額的研發投入及出色的員工激勵制度，公司在傳 統封裝引線腳表面處理化學品領域取得行業領先地位，晶圓制程清洗液、 蝕刻液等業務也在加速發展，并且，合肥、上海化學工業區新基地規劃的 CMP研磨液、光刻膠以及先進封裝材料等化學品有望進一步打開成長空間。

國內領先的半導體化學品企業

公司總部位于上海松江，主營半導體傳統封裝化學品、晶圓制程化學品和 先進封裝化學品及部分配套設備。目前公司現有電子化學品產能1.9萬噸， 并且積極推進合肥基地一期、二期合計7萬噸電子化學品、上海化學工業區 基地3.05萬噸電子化學品產能建設。另外，子公司考普樂經營氟碳涂料業 務，公司正積極剝離涂料板塊聚焦半導體主業。

晶圓制程用化學品業務加速發展

公司傳統封裝化學品業務相對穩定，銅互連電鍍化學品業務行業領先并持 續增長，晶圓制程用清洗液、蝕刻液業務隨產能釋放有望加速發展，CMP研 磨液作為晶圓制程中用量最大的電子化學品之一，亦有較大成長空間。不 僅如此，先進封裝材料亦有快速增長的機會。目前公司的相關產品均已通 過下游晶圓生產企業驗證，且整體市占率尚低，有較大的滲透提升空間。

光刻膠業務進口替代前景向好

光刻膠是電子化學品中的“皇冠”，是中國半導體材料領域最受外資限制 的環節之一。全球半導體光刻膠市場基本被日企壟斷。新陽持續投入研發 并擁有一臺ASML1900型光刻機用以研發28nm高端光刻膠，目前I線、KrF光 刻膠已通過認證獲得小批量連續訂單，ArF光刻膠尚處于客戶端認證階段。