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光刻膠行業簡析：構建自主可控基石，國產替代加速放量。在半導體制造的生態系統中，光刻機和光刻膠是兩個關鍵 的環節，它們共同決定了芯片制造的精度和效率。光刻機 和光刻膠的競爭將不僅僅是技術層面的較量，還將涉及供 應鏈的安全和自主可控能力。

根據Gartner的預測，全球光刻膠市場未來幾年將保持強 勁增長，預計到2028年，市場規模將達到75億美元，年 復合增長率（CAGR）約為8.7%。

雖然當前高端光刻機仍依賴于進口，但國產光刻膠的市場 占有率正逐步提升，國內企業正在逐步打破國外技術壟 斷。

國內半導體產業的高速擴張需求，為國產光刻膠創造了更 多的市場機會。而在另一方面，國際貿易環境的不確定性， 也促使國內企業加速自主研發，減少對外部市場的依賴。

目前，國產光刻膠已經在i 線產品上占據主導，在KrF光 刻膠上占據相當份額，并已實現 ArF光刻膠產品的突破。 國內市場光刻膠國產化率尚在20-25%之間，未來增長空間 明顯。