半導體材料專題報告：光刻膠行業投資寶典.pdf
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- 時間：2020/04/14
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光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、 光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從 光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。依據使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印 刷電路板。
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